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HMDS真空鍍膜機化學名叫六甲基二硅胺烷（別名六甲基二硅氮烷），又稱HMDS基片預處理系統，指需在低真空度下進行的鍍膜。對箱體內預處理過程的工作溫度、工作壓力、處理時間、處理時保持時間等參數的控制，可以在硅片、襯底表面完成 HMDS成底膜的工藝。降低了光刻膠的用量，所有工藝都在密閉的環境中進行，沒有HMDS揮發，提高了安全性。主要適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃
HMDS真空鍍膜機化學名叫六甲基二硅胺烷（別名六甲基二硅氮烷），又稱HMDS基片預處理系統，指需在低真空度下進行的鍍膜。對箱體內預處理過程的工作溫度、工作壓力、處理時間、處理時保持時間等參數的控制，可以在硅片、襯底表面完成 HMDS成底膜的工藝。降低了光刻膠的用量，所有工藝都在密閉的環境中進行，沒有HMDS揮發，提高了安全性。主要適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃
HMDS真空鍍膜機化學名叫六甲基二硅胺烷（別名六甲基二硅氮烷），又稱HMDS基片預處理系統，指需在低真空度下進行的鍍膜。對箱體內預處理過程的工作溫度、工作壓力、處理時間、處理時保持時間等參數的控制，可以在硅片、襯底表面完成 HMDS成底膜的工藝。降低了光刻膠的用量，所有工藝都在密閉的環境中進行，沒有HMDS揮發，提高了安全性。主要適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃
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